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  • 面向AMOLED 顯示的含退化抑制結構的新型薄膜晶體管設計與研究

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    簡(jiǎn)介: 1.在新型平板顯示中,當下新興的高清顯示、虛擬現實(shí)以及裸眼3D 顯示技術(shù)都要求使用高速電路, 未來(lái)器件的工作頻率將越來(lái)越高。
    2. 預期幾年之內,TFT 的動(dòng)態(tài)退化將成為制約器件可靠性提高的瓶頸。
    3. 本項目根據低溫多晶硅TFT 的動(dòng)態(tài)退化模型,提出并設計一種含退化抑制結構的新型高可靠性 多晶硅TFT: 在傳統的三端TFT 器件溝道側面制備與溝道互補摻雜的第四端——sub 端。
    4. 優(yōu)勢:
    在新型TFT 器件中,引入退化抑制結構之后,器件的正常工作狀態(tài)不會(huì )受影響,但TFT 的動(dòng)態(tài)退 化效應會(huì )被大幅抑制,從而延長(cháng)顯示壽命;
    該工藝與CMOS TFT工藝技術(shù)相兼容,且不需要包含LDD 結構,但其退化抑制效果優(yōu)于LDD器件;③即使當Vsub 處于反偏狀態(tài)(例如-2V 電壓),雖然其退化抑制的效果弱于sub 零偏或正偏時(shí), 但動(dòng)態(tài)退化抑制結構依然有效。
    5.該技術(shù)方案已申請發(fā)明專(zhuān)利,目前已通過(guò)復審,即將獲得授權。同時(shí)申請的PCT 國際專(zhuān)利也在 實(shí)質(zhì)審查階段。
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    1.在新型平板顯示中,當下新興的高清顯示、虛擬現實(shí)以及裸眼3D 顯示技術(shù)都要求使用高速電路, 未來(lái)器件的工作頻率將越來(lái)越高。

    2. 預期幾年之內,TFT 的動(dòng)態(tài)退化將成為制約器件可靠性提高的瓶頸。

    3. 本項目根據低溫多晶硅TFT 的動(dòng)態(tài)退化模型,提出并設計一種含退化抑制結構的新型高可靠性 多晶硅TFT: 在傳統的三端TFT 器件溝道側面制備與溝道互補摻雜的第四端——sub 端。

    4. 優(yōu)勢:

    在新型TFT 器件中,引入退化抑制結構之后,器件的正常工作狀態(tài)不會(huì )受影響,但TFT 的動(dòng)態(tài)退 化效應會(huì )被大幅抑制,從而延長(cháng)顯示壽命;

    該工藝與CMOS   TFT工藝技術(shù)相兼容,且不需要包含LDD 結構,但其退化抑制效果優(yōu)于LDD器件;③即使當Vsub 處于反偏狀態(tài)(例如-2V 電壓),雖然其退化抑制的效果弱于sub 零偏或正偏時(shí), 但動(dòng)態(tài)退化抑制結構依然有效。

    5.該技術(shù)方案已申請發(fā)明專(zhuān)利,目前已通過(guò)復審,即將獲得授權。同時(shí)申請的PCT 國際專(zhuān)利也在 實(shí)質(zhì)審查階段。

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