高端微納光刻裝備是開(kāi)展微納新材料、半 導體、MEMS、 生物芯片、精密電路、平板顯 示、固態(tài)照明等領(lǐng)域技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品生產(chǎn)的必 要設備。研發(fā)團隊在高精度激光微納米直寫(xiě)和 加工技術(shù)方面開(kāi)展了長(cháng)期研發(fā)創(chuàng )新，建立了業(yè) 內首個(gè)跨尺度的微納柔性制造平臺，其中，大 幅面微納直寫(xiě)光刻裝備幅面達65寸，結構分 辨率109納米，打破了納米光刻加工系統嚴重 依賴(lài)國外引進(jìn)的局面，具有國際領(lǐng)先水平，并 在國內外得到廣泛應用(南開(kāi)大學(xué)、蘇州納米 所、上海理工大學(xué)、以色列、日本、韓國等)。
